Liquide de polissage de fibre optique

- Dec 02, 2020-

Le liquide de polissage de fibre optique est un produit de polissage d’ion de bas métal de haute pureté produit par un processus spécial avec la poudre de silicium de haute pureté comme matière première. Largement utilisé pour le polissage à haute planarisation nano-niveau de divers matériaux. Tels que : polissage de plaquettes de silicium, cristaux composés, optique de précision, pierres précieuses, etc.

Ingrédients
SiO2, Na2O, impuretés du heavy metal
Portée de l’application
Polissage de planarisation de haut niveau nanométrique de divers matériaux
fonctionnalités
Taux de polissage élevé, haute pureté, etc.

Selon différentes exigences de polissage, il peut être divisé en produits avec différentes tailles de particules (10~150 nm). Selon la différence de valeur de pH, il peut être divisé en liquide de polissage acide et liquide de polissage alcalin.

fonctionnalités
n Taux de polissage élevé, utilisant des particules de silice colloïdale de grande taille pour obtenir un polissage à grande vitesse (150 nm peuvent être produites)

n Taille contrôlable des particules, selon différents besoins, des produits de différentes tailles de particules (10-150 nm) peuvent être produits

n Haute pureté (teneur en Cu inférieure à 50 ppb), réduisant ainsi la contamination des produits électroniques

Traitement à plat élevé, ce produit utilise des particules colloïdales SiO2 pour le polissage, ce qui ne causera pas de dommages physiques aux pièces traitées, et d’atteindre un traitement de flatness élevé

composition du produit

IngrédientsContenu (w%)
SiO2 (en)15~30
Na2o≤0,3
Impuretés des métaux lourds≤50 ppb

Champ d’application
1. Dans le domaine de la communication optique, avec les produits de polissage spécialement développés par la société pour les connecteurs de fibre optique, il peut atteindre l’effet de polissage ultra-fin. Après polissage, la face de l’extrémité du connecteur n’a pas de rayures et de défauts, et l’indice 3D et l’indice d’atténuation de la réflexion atteignent des normes internationales.

2. Pour le polissage des substrats de disque dur, l’abrasif SiO2 est sphérique et présente les avantages d’une taille de particule uniforme, d’une bonne dispersion et d’une efficacité de planarisation élevée.

3. Polissage rugueux et polissage fin des plaquettes de silicium, saphir et autres matériaux semi-conducteurs et substrats, avec un taux de polissage élevé, facile à nettoyer après polissage, rugosité de surface basse, et peut obtenir une surface de qualité avec déviation d’épaisseur totale très faible (TTV).

4. Pour des applications dans d’autres domaines, tels que l’acier inoxydable, le verre optique, etc., un bon effet de polissage peut être réalisé après polissage

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